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真空镀膜机的弧源工作原理是怎么样的


真空镀膜机的弧源工作原理是怎么样的

   空气自放电、离子束对空气原子结构(或分子结构)的撞击,有电粒子束使工作中物质磁控溅射及表面层电离的过程都能产生离子,并被引出整束。按照不一样的运用情况和主要用途,已研发出各种类型的离子源。运用较普遍的有弧自放电离子源、PIG离子源、双等离子离子源和双彭源这种源全是以空气自放电的过程为前提的,常被广泛地称之为弧源。高频率离子源则是由空气中的电弧放电来产生离子的,也是有普遍的主要用途。

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  真空镀膜机弧源的基本原理:真空环境情况下,选用低压、大工作电流的电弧放电技术水平,运用空气自放电使靶材挥发并使被挥发物质与空气都出现电离。
  真空镀膜中采用的离子源类型较多。在其中便包括高频率离子源,
  高频率离子源:运用较稀空气中的电弧放电状况使空气电离,通常用于产生低电势态正离子,有时候也从这当中引出空气负离子,做为空气负离子源运用。在高频率电场中,自由电荷与空气中的原子结构(或分子结构)撞击,并使之电离。自由电荷增长的結果,产生无极自放电,产生很多等离子。高频率离子源的放电管通常用派勒克斯玻璃或石英加热管制做。高频率场可由管外螺线管电磁线圈产生,也可由套在管外的环状电级产生。
  从高频率离子源中引出离子可有二种方法。1种是在放电管顶部插进1根钨丝做为正极,在放电管尾部装一带孔负电极,并把该孔制作管型,从这当中引出离子流。另一种方法是把正极制作帽形,装在引出电级周边,而自放电区则在它的另一边。
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